【太平洋科技快讯】为了进一步提升iPhone的端侧AI性能,苹果公司近日与三星电子展开合作,共同研发新的低功耗双倍数据速率(LPDDR)DRAM封装方式。
苹果计划于2026年采用分离式封装LPDDR DRAM。这种封装方式将DRAM和SoC分开,能够增加I/O引脚数量,提高数据传输速率和并行数据通道数量,同时改善散热性能,从而显著提升内存带宽,增强iPhone的AI能力。
此外,三星还在探索为iPhone DRAM应用LPDDR6-PIM技术,该技术数据传输速度和带宽是LPDDR5X的两到三倍,专为设备端AI设计。目前,三星与SK海力士正共同推动该技术的标准化进程。
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