【太平洋科技快讯】据科技媒体 WccfTech 8 月 7 日的报道,近期曝光的台积电 2nm 芯片技术泄密事件可能造成的实际危害低于预期。行业分析人士指出,涉事员工权限较低,接触的信息主要与设备性能相关,并未涉及关键研发资料。
据悉,涉事员工来自台积电新竹 Fab 20 厂区,该厂区目前正为 2nm 工艺的量产做准备。该员工涉嫌拍摄了控制图表或晶圆布局图,并将资料分享给日本设备供应商东京电子(TEL)的员工。而 TEL 是台积电的设备供应商,为其提供光阻涂布机、显影机等核心半导体制造设备。
行业专家分析认为,涉事员工的行为更可能是出于设备安装调试的参考需求,而非恶意窃取商业机密。目前,台积电和 TEL 均已解雇相关涉事人员,并发表声明强调“未发现机密信息外泄”。
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